全球集成电路产量:MOS<0.4μm to >=0.2μm

时间范围:2007.12 - 2011.12单位:1000WSpW数据来源:美国半导体行业协会
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下载表格数据全球集成电路产量:MOS<0.4μm to >=0.2μm 的数据如下:
序号 时间(季度) 单位:1000WSpW
注:时间后面标注“E”其对应的值为系统根据历史数据预测所得,仅供参考。
1 2011.12 开通后显示数据,立即开通
2 2011.09 开通后显示数据,立即开通
3 2011.06 开通后显示数据,立即开通
4 2011.03 开通后显示数据,立即开通
5 2010.12 开通后显示数据,立即开通
6 2010.09 开通后显示数据,立即开通
7 2010.06 开通后显示数据,立即开通
8 2010.03 开通后显示数据,立即开通
9 2009.12 开通后显示数据,立即开通
10 2009.09 开通后显示数据,立即开通
11 2009.06 开通后显示数据,立即开通
12 2009.03 开通后显示数据,立即开通
13 2008.12 开通后显示数据,立即开通
14 2008.09 178.30
15 2008.06 190.90
16 2008.03 212.10
17 2007.12 208.50
(停)SICAS全球产能利用率报告(季) 下的其他数据:
数据名(时间) 单位 起止时间 操作
全球集成电路产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2009.06 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2009.06 进入查看
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