全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm

时间范围:2007.12 - 2009.06单位:%数据来源:美国半导体行业协会
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下载表格数据全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm 的数据如下:
序号 时间(季度) 单位:%
注:时间后面标注“E”其对应的值为系统根据历史数据预测所得,仅供参考。
1 2009.06 90.20
2 2009.03 69.90
3 2008.12 84.39
4 2008.09 95.23
5 2008.06 95.22
6 2008.03 96.73
7 2007.12 95.37
(停)SICAS全球产能利用率报告(季) 下的其他数据:
数据名(时间) 单位 起止时间 操作
全球集成电路产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球分立电器产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球半导体组件产能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2009.06 进入查看
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