全球集成电路产量:300mm Wafers,8inch equivalent_美国半导体行业协会_行业经济数据

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全球集成电路产量:300mm Wafers,8inch equivalent

时间范围：2006.06 - 2011.12单位：1000WSpW数据来源：美国半导体行业协会

下载表格数据**全球集成电路产量:300mm Wafers,8inch equivalent 的数据如下：**
序号	时间（季度）	单位：1000WSpW
注：时间后面标注“E”其对应的值为系统根据历史数据预测所得，仅供参考。
1	2011.12	开通后显示数据，立即开通
2	2011.09	开通后显示数据，立即开通
3	2011.06	开通后显示数据，立即开通
4	2011.03	开通后显示数据，立即开通
5	2010.12	开通后显示数据，立即开通
6	2010.09	开通后显示数据，立即开通
7	2010.06	开通后显示数据，立即开通
8	2010.03	开通后显示数据，立即开通
9	2009.12	开通后显示数据，立即开通
10	2009.09	开通后显示数据，立即开通
11	2009.06	开通后显示数据，立即开通
12	2009.03	开通后显示数据，立即开通
13	2008.12	开通后显示数据，立即开通
14	2008.09	开通后显示数据，立即开通
15	2008.06	开通后显示数据，立即开通
16	2008.03	开通后显示数据，立即开通
17	2007.12	开通后显示数据，立即开通
18	2007.09	开通后显示数据，立即开通
19	2007.06	581.17
20	2007.03	491.85
21	2006.12	471.38
22	2006.09	418.95
23	2006.06	394.88

*(停)SICAS全球产能利用率报告(季) 下的其他数据：*
数据名(时间)	单位	起止时间	操作
全球集成电路产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS>=0.7μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS>=0.7μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2009.06	进入查看
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