全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm_美国半导体行业协会_行业经济数据

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全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm

时间范围：2009.09 - 2011.12单位：%数据来源：美国半导体行业协会

下载表格数据**全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm 的数据如下：**
序号	时间（季度）	单位：%
注：时间后面标注“E”其对应的值为系统根据历史数据预测所得，仅供参考。
1	2011.12	开通后显示数据，立即开通
2	2011.09	开通后显示数据，立即开通
3	2011.06	开通后显示数据，立即开通
4	2011.03	开通后显示数据，立即开通
5	2010.12	开通后显示数据，立即开通
6	2010.09	开通后显示数据，立即开通
7	2010.06	开通后显示数据，立即开通
8	2010.03	开通后显示数据，立即开通
9	2009.12	91.40
10	2009.09	95.30

*(停)SICAS全球产能利用率报告(季) 下的其他数据：*
数据名(时间)	单位	起止时间	操作
全球集成电路产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球分立电器产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产能(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产量(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球半导体组件产能利用率(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS>=0.7μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS>=0.7μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS>=0.7μm(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	1000WSpW	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)	%	2006.06 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)	%	2007.12 - 2011.12	进入查看
全球集成电路产能:MOS<0.08μm(季度)	1000WSpW	2007.12 - 2009.06	进入查看
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