| 数据名(时间) | 单位 | 起止时间 | 操作 |
|---|---|---|---|
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm (季度) | % | 2007Q4 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm (季度) | % | 2007Q4 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm (季度) | % | 2007Q4 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm (季度) | % | 2009Q3 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.06μm (季度) | % | 2009Q3 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:Smaller than 200mm Wafers (季度) | % | 2006Q2 - 2011Q4 | 进入查看 |
| 全球集成电路产能利用率:MOS<0.08μm (季度) | % | 2007Q4 - 2009Q2 | 进入查看 |
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